2025
06-09
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ASML称中国早已研发国产光刻机：中科院成功研发DUV光源技术 能生产3nm NEW
快科技6月7日消息，据国外媒体报道称，近日ASML CEO接受媒体采访时表示，中国早已研发国产光刻设备。在这位CEO看来，尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走，但美国出台的打压措施只会适得其反，让中国“更努力取得成功”。他还称，与其打压中国等竞争对手，不如将注意力放在创新上。“中国已经开始研发一些国产光刻设备，尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走，但你试图阻止的人会更加努力地取得成功。”在这之前，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，...
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